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Eksma 高反射鍍膜

簡要描述:Eksma 高反射鍍膜
多層介電高反射率(HR)鍍膜是用于在AOI = 0°或45°時在特定的激光線波長處實現(xiàn)較高反射率的疊層。我們提供226 nm至2100 nm的HR激光線鍍膜。

  • 產(chǎn)品品牌:Eksma
  • 廠商性質:代理商
  • 更新時間:2021-03-22
  • 訪  問  量:855

詳細介紹

品牌Eksma價格區(qū)間面議
組件類別光學元件應用領域醫(yī)療衛(wèi)生,環(huán)保,化工,電子,綜合

Eksma 高反射鍍膜




Eksma 高反射鍍膜

介電多層高反射率鍍膜是用于在AOI = 0°或45°時在特定的激光線波長處實現(xiàn)較大可能反射率的疊層。

產(chǎn)品介紹

多層介電高反射率(HR)鍍膜是用于在AOI = 0°或45°時在特定的激光線波長處實現(xiàn)較高反射率的疊層。我們提供226 nm至2100 nm的HR激光線鍍膜。

激光線高反射率鍍膜適用于外部光束處理應用,在這些應用中,甚至可能會有很小的損失。

請發(fā)送帶有鍍膜和基材代碼的定制產(chǎn)品請求,以獲取報價。對于基材,請參閱我們的標準未鍍膜激光窗口部分。

EKSMA OPTICS是激光,激光系統(tǒng)和光學儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應商。 我們的激光組件可在科學,工業(yè),醫(yī)學,美學,軍事和航空航天市場的不同激光和光子學應用中使用。 波長范圍從紫外(193 nm)到可見光(VIS)到紅外(20μm)以及太赫茲(THz)范圍的激光光學組件的應用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應用,激光介質和非線性頻率轉換晶體,光機械,帶驅動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應商,它們用于激光器和其他應用光學儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領域開始其一項業(yè)務,其基礎是在激光和光學領域的長期專業(yè)知識。
公司提供的所有組件均經(jīng)過質量控制實驗室的高質量測試和認證。 通過嚴格的檢查程序,質量控制評估以及對新技術的承諾,我們不斷改進并提供優(yōu)良的質量。 EKSMA OPTICS已通過ISO 9001:2015認證。 必維檢驗集團(Bureau Veritas)頒發(fā)的認證。
EKSMA OPTICS大力投資于的制造設備和擴展制造能力。
公司擁有:?用于平板玻璃和熔融石英光學元件的切割,研磨和拋光設備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶體的拋光設備。 of球面鏡和非球面鏡(包括軸錐)的研磨和拋光設備。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中,鏡頭由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設施可用于激光光學和晶體的,超精密薄膜鍍膜。 of電光調(diào)制器的組裝設備–基于BBO,DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。

產(chǎn)品型號

高反射率激光線鍍膜

鍍膜型號

波長

反射率(%)

推薦

損傷

AOI=0°


AOI=45°


nm


AOI=0°

AOI=45°

基材

閾值

1007-i0

1007-i45

226

>99

>99

UVFS

1 J/cm2
in 10 ns

1009-i0

1009-i45

248

>99

>99

UVFS

1.5 J/cm2
in 10 ns

1011-i0

1011-i45

266

>99.5

>99

UVFS

1.5 J/cm2
in 10 ns

1013-i0

1013-i45

308

>99.5

>99.2

UVFS

1.5 J/cm2
in 10 ns

1015-i0

1015-i45

325

>99.5

>99.2

UVFS

1.5 J/cm2
in 10 ns

1017-i0

1017-i45

337

>99.7

>99.5

UVFS

1.5 J/cm2
in 10 ns

1019-i0

1019-i45

355

>99.7

>99.5

UVFS

1.5 J/cm2
in 10 ns

1021-i0

1021-i45

400

>99.7

>99.5

UVFS

1.5 J/cm2
in 10 ns

1023-i0

1023-i45

473

>99.7

>99.5

UVFS, BK7

1.5 J/cm2
in 10 ns

1024-i0

1024-i45

488-515

>99.7

>99.5

UVFS, BK7

1.5 J/cm2
in 10 ns

1025-i0

1025-i45

532

>99.7

>99.5

UVFS, BK7

5 J/cm2
in 10 ns

1027-i0

1027-i45

589

>99.7

>99.5

UVFS, BK7

5 J/cm2
in 10 ns

1029-i0

1029-i45

616

>99.7

>99.5

UVFS, BK7

5 J/cm2
in 10 ns

1030-i0

1030-i45

633

>99.7

>99.5

UVFS, BK7

5 J/cm2
in 10 ns

1031-i0

1031-i45

780

>99.7

>99.5

UVFS, BK7

5 J/cm2
in 10 ns

1032-i0

1032-i45

800

>99.7

>99.5

UVFS, BK7

5 J/cm2
in 10 ns

1033-i0

1033-i45

830

>99.7

>99.5

UVFS, BK7

5 J/cm2
in 10 ns

1034-i0

1034-i45

852

>99.7

>99.5

UVFS, BK7

5 J/cm2
in 10 ns

1037-i0

1037-i45

1064

>99.7

>99.5

UVFS, BK7

5 J/cm2
in 10 ns

1039-i0

1039-i45

1320

>99.7

>99.5

UVFS, BK7

1.5 J/cm2
in 10 ns

1045-i0

1045-i45

1550

>99.7

>99.5

UVFS, BK7

1.5 J/cm2
in 10 ns

1047-i0

1047-i45

2000

>99

>99

UVFS, Sapphire

1.5 J/cm2
in 10 ns

1049-i0

1049-i45

2100

>99

>99

UVFS, Sapphire

1.5 J/cm2
in 10 ns

 

高反射率寬帶涂層

鍍膜型號

波長

反射率(%)

推薦

損傷

AOI=0°


AOI=45°


nm


AOI=0°

AOI=45°

基材

閾值

1106-i0

1106-i45

220-250

>99

>99

UVFS

1 J/cm2 in 10 ns

1110-i0

1110-i45

260-340

>99

>99

UVFS

1 J/cm2
in 10 ns

1114-i0

1114-i45

350-450

>99

>99

UVFS

1 J/cm2
in 10 ns

1116-i0

1116-i45

420-680

>99

>99

UVFS, BK7

1 J/cm2
in 10 ns

1130-i0

1130-i45

600-900

>99

>99

UVFS, BK7

1 J/cm2
in 10 ns

1132-i0

1132-i45

720-880

>99

>99

UVFS, BK7

1 J/cm2
in 10 ns

1133-i0

1133-i45

760-840 nm

>99

>99

UVFS, BK7

1 J/cm2
in 10 ns

1142-i0

1142-i45

900-1100

>99

>99

UVFS, BK7

1.5 J/cm2
in 10 ns

1144-i0

1144-i45

1100-1400

>99

>99

UVFS, BK7

1.5 J/cm2
in 10 ns

 EKSMA OPTICS是激光,激光系統(tǒng)和光學儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應商。 我們的激光組件可在科學,工業(yè),醫(yī)學,美學,軍事和航空航天市場的不同激光和光子學應用中使用。 波長范圍從紫外(193 nm)到可見光(VIS)到紅外(20μm)以及太赫茲(THz)范圍的激光光學組件的應用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應用,激光介質和非線性頻率轉換晶體,光機械,帶驅動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應商,它們用于激光器和其他應用光學儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領域開始其一項業(yè)務,其基礎是在激光和光學領域的長期專業(yè)知識。
公司提供的所有組件均經(jīng)過質量控制實驗室的高質量測試和認證。 通過嚴格的檢查程序,質量控制評估以及對新技術的承諾,我們不斷改進并提供優(yōu)良的質量。 EKSMA OPTICS已通過ISO 9001:2015認證。 必維檢驗集團(Bureau Veritas)頒發(fā)的認證。
EKSMA OPTICS大力投資于的制造設備和擴展制造能力。
公司擁有:?用于平板玻璃和熔融石英光學元件的切割,研磨和拋光設備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶體的拋光設備。 of球面鏡和非球面鏡(包括軸錐)的研磨和拋光設備。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中,鏡頭由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設施可用于激光光學和晶體的,超精密薄膜鍍膜。 of電光調(diào)制器的組裝設備–基于BBO,DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。

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